探寻光刻技術前沿「5」:德國蔡司的EUV光學制造迭代

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0.33NA EUV光學體系除焦點的暴光光學部門不竭晋升，照明模块也一向在改良。照明模块的光瞳填充因子（Pupil-filled factor）從2012年的40%低落到2016年的20%。

照明模块的最新版本的光瞳填充因子低落到20%，而且今朝正在钻研進一步改良的方案。

從2006年EUV光刻機出生以来，咱們可以看到德國蔡司一向在經由過程工業化出產力东西的量產-優化-進级的迭代進程，不竭的優化其技能指標，逐步晋升量產能力。這個迭代進程的显著特性是：

1，有最顶尖的體系集成商ASML供给的顶尖的集成情况，来供给大量的测試数据用于反馈迭代；

2，有最顶尖的EUV光刻機客户供给出產力东西的實测指標用于反馈迭代；

3，有制造膝蓋牙痛怎麼辦,痛藥膏,      商蔡司經由過程本身的多量量量產進程的技能堆集、在工業级櫻花茶包,產物制造平台中邃密地優化指標、晋升参数；

4，這一高精尖地迭代進程，有市場匹配的高红利作為資金支持。

接下来咱們继续摸索ASML和兒童早教玩具,蔡司详细是若何實現這些工程迭代的。